工業(yè)定制真空等離子設(shè)備
-
-
性能特點
Plasma technology GmbH從事低真空等離子技術(shù)研究十余年,從單個工藝的開發(fā)到選擇和制造適當?shù)脑O(shè)備覆蓋從創(chuàng)新的和成熟的產(chǎn)品到整個工藝鏈,用等離子技術(shù)推動創(chuàng)新,開啟高品質(zhì)的未來。
產(chǎn)品展示
-
· 外部尺寸 W × H × D:2600 × 2300 × 1000 mm
· 腔體尺寸W × H × D:650 × 500 × 800 mm -
· 外部尺寸 W × H × D:2600 × 2300 × 2500 mm
· 腔體尺寸 W × H × D:12000 × 320 × 1700 mm -
· 外部尺寸 W × H × D:3140 × 2773 × 2134 mm
· 腔體尺寸 W × H × D:1000 × 1000 × 1450 mm -
· 外部尺寸 W × H × D:6900 × 4050× 2400 mm
· 腔體尺寸 W × H × D:2780 × 1950 × 1750 mm
產(chǎn)品優(yōu)勢
-
-
◆ 德國技術(shù),德國制造,德國品質(zhì)
◆ 無耗材,耐損耗,最經(jīng)濟的處理方案
◆ 全腔室均勻等離子體,絕佳的可重復(fù)性
◆ 多種型號,自由配置,最貼心的定制服務(wù)
◆ 多程序存儲,連續(xù)性和交替性工藝運行自如
◆ 多圖表實時展示,數(shù)據(jù)自動存儲,遠程聯(lián)網(wǎng)控制